強詞有理:光刻機突破
近日關於中國取得光刻機突破的消息引起熱議,有人振奮,也有人質疑。事緣國家工信部公布的《首台(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄》中,包含了氟化氬光刻機(即DUV深紫外光刻機),據說可以製造7納米晶片,有人則認為只能製造14納米晶片,有人甚至認為只有28納米晶片的水平。其實不管怎麼說,這都是中國光刻機領域的一大突破,儘管技術也許尚未完全成熟,與世界先進水平還有一段距離,但好的開始就是成功的一半,只要起步了,就一定能趕上甚至超越,中國人應有這種信心和底氣。
自從美國限制中高端半導體設備輸華後,有些人就一直強調製造光刻機的難度,內地公知更斷言中國永遠也無法製造出自己的光刻機。是嗎?中國人就是不信邪,光刻機是人造的,不是神造的,外國人做得到,為何偏偏中國人做不到?去年華為推出新一代智能手機,到底如何取得技術突破,晶片從何而來,至今依然是一個謎,洋人固然搞不懂,內地公知也莫名其妙。他們被打臉後下不了台,只好通過抹黑和貶低華為產品來洩憤,殊不知華為近日又推出全球首款三摺疊屏手機而驚艷世界,令洋人和公知們更加難堪。
過去無數事實證明,中國人的成功往往是被逼出來的,兩彈一星、北斗導航、探月工程、太空站、量子通信、5G技術、人工智能、盾構機等等,全是在西方技術封鎖之下取得的成就。光刻機和晶片也不例外,今天美國聯合荷蘭、日本、南韓等國盟友對華封鎖禁運,明天他們就會發現一切都是徒勞無功,反而促使中國加快自主研發步伐。
曾有一段時間,中國高調宣傳「中國製造2025」,惟近年已明顯改變策略,一直在默默耕耘,少說話只做事,或只做事不說話,所以,目前科技領域到底取得甚麼突破和成就,外界一無所知,只能瞎猜亂估。這次有關部門主動公布取得光刻機突破,說明研發工作已有相當日子並已臻於成熟,相信很快就能量產,或者已經量產。有人說,中國晶片實現自給自足只是時間問題,而且可能比外界想像快得多。這是吹牛嗎?時間會證明一切。
華盛頓一家智庫近日發表研究報告,指中國在某些科技領域已經領先,其他諸多領域也可能在10年內趕上或超過西方。這可不是中國人自己吹的。
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