昔日東方Canon納米壓印技術 料被禁止出口中國
Canon上月推出可繞過EUV（極紫外光）光刻機生產尖端晶片的「納米壓印」（Nanoimprint）技術。社長御手洗富士夫表示，其價格會比ASML的EUV「少一個零」。然而，壞消息是，鑑於「納米壓印」技術能夠用於14納米以下製程，據他理解也會被日本政府禁止向中國出口。
御手洗稱，不預期它能「彎道超車」EUV，但有信心可以開拓新的機遇，並指已經收到很多客戶查詢。Canon正於東京北部櫪木縣的宇都宮市興建一座半導體微影設備廠房，預計2025年投產。
「納米壓印」的原理就像蓋章，把晶片電路設計圖的「印章」置於晶圓上，UV（紫外光）照射之，等於印章的墨水，由於印一遍就行，而且光源要求比起EUV低，可以節省成本，並因為省了電，可以減少碳排放。
長鑫存儲傳獲注資390億
照目前地緣政治形勢，「納米壓印」無望為中國半導體產業另闢蹊徑也不令人意外，中國只好繼續「集中力量辦大事」。消息指，國產DRAM記憶體旗艦長鑫新橋存儲剛獲「國家隊」注資390億元（人民幣‧下同），其中俗稱「大基金」的國家集成電路產業投資基金出146億元。
主打NAND記憶體的長江存儲上周傳出新一輪融資，面向內地投資者的部分獲超額認購。
另邊廂，ASML中國區總裁沈波預計內地需求持續強勁，預期今年內地收入佔比會超過20%，又指今年已聘請超過200人。展望明年，他相信業務也會很好，招聘規模應該也會大。
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