昔日東方Canon推新晶片設備 破ASML光刻機壟斷
Canon蓄勢打破ASML在先進製程光刻機的壟斷，周五開售類似「執字粒」技術的晶片微影設備，可供生產5納米製程的尖端晶片，期待改良後應用於目前尚未有廠商量產的兩納米製程。換言之，日後尖端製程晶片生產商不一定要用ASML獨步天下、已淪為美國地緣政治籌碼的EUV（極紫外光）光刻機！
一部光刻機的光束可以比喻為一支筆尖極幼的毛筆，提着它在晶圓上寫細字畫國畫，把頭髮萬分之一幼且極為複雜的晶片電路畫上去，之後透過種種刁鑽工藝讓晶片器件成形，落筆差少許都恐報廢。Canon和Nikon都有運用從相機業務積累多年的光學經驗做光刻機，可惜早就被ASML拋離千里之外。
現在Canon另闢蹊徑，不用毛筆，改用「印章」，正式名為「Nanoimprint」（納米印），把晶片電路設計圖的「印章」置於晶圓上，UV（紫外光）照射之，等如印章的墨水。該企稱，由於印一遍就行，而且光源要求比起EUV低，可以節省成本，並因為省了電，可以減少碳排放。
由於技術新穎，市場關注尖端製程日後可能不一定要用EUV光刻機，美國陣營少了一張向敵對陣營技術封鎖的王牌。Canon拒絕評論日本政府的技術出口管制是否適用於新產品。
美傳禁海外中企獲AI晶片
據了解，納米印技術推出前已經有日本記憶體公司Kioxia（前稱東芝半導體）試過。當然，由於半導體廠商正式生產過程容不得半點差錯，要大規模應用，或許尚需時日。Canon股價昨跌0.99%，ASML歐洲股價曾跌2.08%。不過，Canon的技術對於日本重振半導體產業仍有象徵意義。
另外，據報美國政府正考慮透過限制中國企業海外分支獲得美國的人工智能（AI）晶片，加強堵塞出口管制漏洞。但華府延長豁免台積電內地廠房進口美國設備之管制。
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