技術現突破 中芯量產7納米晶片 美或擴制裁令

由於美國的制裁令，中芯無法從正常渠道獲得生產10納米以下先進製程的設備。不過，易方資本分析員王逸研指出，從技術角度來看，原本用於生產成熟製程的深紫外光（DUV）光刻機，在配合特定技術並校正光波後，其實能夠生產7納米晶片，不過成本較高。

事實上，荷蘭光刻機生產商ASML行政總裁Peter Wennink早前也表示，美國政界不時向公司施壓，要求停止向中國供應DUV光刻機。換言之，隨着中芯實現技術突破，美國很可能會擴大制裁令的範圍。

值得注意的是，美國正積極拉攏日韓台三地，打算組成「晶片聯盟（Chip4）」。雖然南韓對於加入聯盟的取態仍然謹慎，但作為該國最大晶圓代工廠的三星電子，已率先交納投名狀，計劃在美國大規模擴產，提出未來20年投資2,000億美元（約1.56萬億港元）在德州興建11家工廠。雖然三星表示相關的投資計劃並不是必然的承諾，但其歸邊的想法已表露無遺。

另邊廂，南韓半導體企業對於國內的投資取態相對冷淡，SK海力士據報已無限期推遲在南韓中部的清州市建廠計劃。該廠房投資金額預算為4.3萬億韓圜，原計劃專注生產高端記憶體晶片。不過，受礙於電腦及智能手機銷售轉趨低迷、原材料等成本價格上升等因素，最終公司選擇擱置計劃。