台晶片老將撐中芯進軍5納米

中芯闖尖端製程的靈魂人物、聯合首席執行長梁孟松在公司被踢入貿易黑名單前夕提到，7納米製程的開發經已完成，預計今年可以投入風險量產，5納米和3納米製程最關鍵和最艱巨的技術已有序展開，EUV（極紫外光）光刻機一到手便可進入全面開發階段。

曾任台積電前研發副總經理的「浸潤式微影之父」林本堅則認為，EUV等微影技術和產能十分「燒錢」，因此尖端製程「吃力不討好」。中芯未必要EUV光刻機，以現有設備應該能做到現時台積電製程組合中最尖端的5納米製程，關鍵在於「技術研發是否到位」。中芯去年8月底披露，該企去年上半年研發人員人數按年銳減26.2%。

「浸潤式微影」技術跟早年的「乾式微影」相反，以水折射光線，從而在晶圓上刻出更微細、更精密的晶片電路，為業界開拓90納米以下製程殺出血路。

不過，撇開良率問題，以華府可能聯同盟友擴大對中國出口晶片生產設備，也許林本堅上述單從技術出發的言論會反過來印證西方有必要加緊設備封鎖。他又說，尖端製程還有很多方法可以做，先進封裝技術是其中之一，不一定能省錢，但可提升效能。