美變招堵華:怒逼荷蘭
禁運先進製芯光刻機
中美角力持續,具戰略性的晶片製造技術成主戰場。外媒報道,美國政府官員最新證實,以國家安全為由,美國在荷蘭和中國間的科技貿易中攙一腳,確保先進晶片生產設備極紫外光(EUV)光刻機不會落入中國。分析指,這是扼殺中芯國際(00981)的行徑。
是次被禁的是來自荷蘭ASML生產的EUV光刻機,主要用來製造高端晶片,供智能手機和人工智能(AI)相關高階產品。其須運用來自日本、美國和德國的專門技術和零件解決其複雜性,在全球半導體供應鏈上不可或缺。
中國自研機器需時10年
簡單來說,EUV光刻機的系統能用不同的光,界定晶片上的極微細電路,令晶片擁有較多功能。倘缺乏這個系統,中國便無法製造最先進晶片。有機構研究顯示,中國需要至少10年才能研發到類似機器。
台積電利用該設備製造最新款蘋果公司(Apple Inc.)手機處理器;英特爾(Intel)和國際商業機器(IBM)亦稱,EUV光刻機對他們至關重要。
中國若想在晶片發展領域自給自足,使半導體企業減少對外國供應商的依賴,與ASML達成貿易十分重要。事實上,中國官員頻頻查問荷蘭政府為何不放行ASML生產的EUV光刻機出口許可。然而,據報美國總統拜登在上任後不到一個月,已指示其國家安全顧問沙利文,繼續與荷蘭聯繫,限制ASML與中國進行業務往來。
中芯國際曾在今年3月透露,雖得到來自ASML出售的深紫外光(DUV)光刻機出貨許可(主要用於成熟製程),但EUV光刻機仍受出口限制,意味中芯不能掌握最先進製程技術。
台積電創始人張忠謀不點名看淡晶片自給自足成效,因晶片製造的全球供應鏈分工已定,若任何地方堅持試圖研發獨立的供應鏈,不僅會令成本上升,也會妨礙技術發展。
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