荷蘭新規 擴對ASML晶片設備出口要求

新規昨日生效，適用於ASML較舊型號的深紫外線沉浸式光刻系統對華出口，包括1970i和1980i。荷蘭外貿與發展大臣克萊沃（Reinette Klever）在聲明中表示，看到技術進步導致與特定製造設備出口相關的安全風險增加，特別是在當前的地緣政治背景下。ASML回應指，預計新規不會對今年或未來的財務前景產生任何影響。

此外，南韓首爾警察廳產業技術安全偵查隊上周五表示，法院已批准逮捕涉嫌對華洩露晶片核心技術的三星電子前高管和首席研究員。