兩岸國際

中國電子院否認國產化光刻機

針對光刻機國產化傳聞,中國電子院否認。 針對光刻機國產化傳聞,中國電子院否認。
針對光刻機國產化傳聞,中國電子院否認。
【本報綜合報道】內地近日有消息稱,北京清華大學極紫外光(EUV)光源項目把荷蘭光刻機巨頭ASML的光刻機巨大化,實現光刻機國產化,該項目更在雄安新區落地。中國電子工程設計院有限公司(下稱中國電子院)周一澄清,該項目並非網上流傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源(HEPS)項目。
稱高能同步輻射光源項目
上述HEPS項目坐落於北京市懷柔區雁棲湖畔,是內地首台高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第4代同步輻射光源之一。該項目2019年開始建設,2025年底投入使用。中國電子院表示,HEPS可以看成一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機,其產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描,從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界,這是進行科學實驗的大科學裝置而非光刻機工廠。
中國電子院稱,該項目由全國勘察設計大師、國投集團首席科學家婁宇帶隊,該院多個技術科研和設計團隊協同合作,從項目可研立項到項目落地克服多項技術和工藝難關,目前HEPS配套工程全面完工。
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