【本報綜合報道】美國紐約一間保障基因私隱公司最近研製出兩款高科技噴霧，聲稱可清除任何表面留下的DNA痕迹。外界擔憂它或會被不法分子利用，清除犯案時留下的DNA證據。
由女藝術家哈格堡開設的基因私隱公司，推出兩種可一併或分別使用的DNA清除噴霧。第一種名為「清除」，被指能除去殘留在門柄等表面約百分之九十九點五的DNA；第二種名為「取代」，以混合基因物料覆蓋，攪亂原本的DNA痕迹。該噴霧下月開售，哈格堡有信心產品可在五年內像酒精搓手液一樣普及。
香港城市大學生物及化學副教授林漢華接受本報訪問時指，要清除DNA痕迹並非難事，只須用酶或普通酸性物質分解即可。
他續稱，用方法掩蓋DNA會增加執法部門鑑證的難度。