「畫布」僅闊30微米
喬治亞理工學院（Georgia Institute of Technology）的科學家，最近以原子力顯微鏡配上熱化學納米印刷技術（TCNL），在闊度只得三十微米的薄膜上用熱能「作畫」。畫上每像素之間僅距一百二十五納米，每個點上愈熱，就會聚集愈多分子，令該點較深色。在每個點上製造不同溫度，就可營造出深淺不同的陰影。
學院副教授庫爾蒂斯表示，他們的團隊透過複製極細版《蒙娜麗莎》，反映出TCNL這項技術已能被靈活運用，而這更能促使納米電子、光電子學及生物工程學等領域的研究，發展種種新實驗及用途。