芯戰激化美日荷加碼堵華

傳限制輸出先進晶片設備 ASML及Nikon成磨心

中美科技戰已進入白熱化階段，美國拉攏盟友聯合封鎖中國技術的戰略有重大進展！消息指，日本及荷蘭將加入限制對中國出口先進的半導體設備，料將涉及生產高端晶片必須的極紫外光（EUV）光刻機設備；又指美日荷3國基本上已達成共識，相關的談判最快於美國時間周五結束。惟有分析認為，這些所謂的封鎖措施，只會推動中國決心自行研發，其最終仍將突破技術瓶頸，破解西方的技術圍堵。

外媒報道，荷蘭政府將擴大對光刻機製造商ASML的限制，阻止其出售部分EUV光刻機予中國；日本政府也會對昔日曾經是光刻機龍頭、以知名相機品牌為大眾所熟知的尼康（Nikon）實施類似限制。所謂「光刻機」，是一種用於大規模量產晶片的核心裝置，其生產及維修的技術門檻極高，只有少數在光學、電子方面造藝非凡的公司能夠掌握這種技術。

就目前而言，荷蘭企業ASML是全球光刻機市場的龍頭企業，基本上壟斷了全球EUV光刻機的供應。EUV光刻機較傳統的深紫外光（DUV）光刻機擁有更短的波長，因此才能夠用於生產更加精細的先進製程晶片。

ASML：將令中國突破瓶頸

除了光刻機外，由日本的東京電子（Tokyo Electron）主導市場的蝕刻機、鍍膜設備等，亦是生產先進晶片的關鍵；其他主要供應商還包括美國的應用材料（Applied Materials）、泛林集團（Lam Research）等。在此之前，美國的設備供應商一直抗議對中國實施出口限制，因為美國單方面制裁，等同把美國企業的市場份額拱手相讓予日本。

荷蘭及日本政府雖然願意加入制裁行列，但這並不代表商界同意這種做法。ASML行政總裁Peter Wennink表示，美國的所謂制裁可能會產生意想不到的後果。他表示，這種做法最終可能會促使中國成功自行開發先進晶片製造設備技術，「這需要時間，但他們終會實現。」

儘管如此，短期內中國的半導體企業確實在美國制裁之下舉步維艱。中國記憶體晶片大廠長江存儲，據報因為受到美國制裁令的影響，阻礙了供應鏈採購，其興建第二座晶圓廠的計劃恐遭延遲，甚至阻礙到其發展新的技術。去年12月，美國商務部將長江存儲與其他35家中國機構列入實體清單，限制採購使用美國技術的設備。

長江存儲拓新技術遇阻

有業界專家指出，長江存儲並不缺少光刻機，因為其在遭到美國制裁前已經提前購置，真正面臨的挑戰是缺少來自泛林集團等供應商的蝕刻工具，這些工具對複雜的3D快閃記憶體（NAND）生產至為關鍵。Trendforce研究報告指出，由於無法取得關鍵設備供應商的支援，長江存儲發展其最先進的3D NAND技術「Xtacking 3.0」正面臨重大的技術障礙，特別是提高128層與232層製程的生產良率將極具挑戰。

有內地傳媒報道，有長江存儲員工在社交媒體上表示自己被裁，並被公司要求在3年內清還「員工福利價買樓計劃」的物業差價。由於當時是按市價最高位綁定樓價，按協議預計要賠償超過40萬元人民幣給公司，感慨「天天加班至深夜」卻被公司無情對待。