昔日東方國產設備暫未能滿足量產
中美兩國今時今日都強調半導體等關鍵物資要供應自主，華府不讓中國取得尖端晶片和生產設備，中國對鎵等實施出口管制。那麼，本港要發展的第三代半導體又多大程度上做到「自主」？香港微電子研究院董事局主席陳正豪表示，雖然尚未能完全國產替代，但內地設備開發進步相當之快。
相關光刻機未被美限出口
他指，第三代半導體國產化的難關主要在於光刻機，內地研製的尚未滿足量產的需要，況且ASML、Canon、Nikon已經在這個領域深耕幾十年。
據其介紹，第三代半導體所用的光刻機是i-line，光束波長幾乎是DUV（深紫外光）的一倍，或西方用來「卡脖子」的EUV（極紫外光）的10倍以上，按理i-line這個連DUV都未到的較舊技術並非美國技術封鎖的對象，但「總統換人之後會點無人估到」。
不過，工業用的半導體器件不必太幼的波長，「電路整到太細冇用，隨時好似fuse咁燒咗，而且設備成本高昂，反觀i-line作為成熟技術，設備相對EUV和DUV低廉，也未被西方限制出口。」
回望上財季，ASML交付（銷售）18部i-line，對設備銷售收入之貢獻僅2%，折合約10億港元；反觀Nikon交付35部光刻機當中有22部、Canon交付49部半導體光刻機當中多達39部是i-line。
對華半導體出口管制通常只聚焦光刻機，下一道工序——刻蝕設備方面，陳正豪指，「美國的泛林集團（Lam's Research）最先進，但內地的產品追得頗快，國內廠商有使用，我們用的也不需太精密。」至於晶片設計軟件（EDA），「我哋需要嘅國產都得」。然而，他補充，半導體生產設備始終不菲，正式採用前詳細評估。
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